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[主观题]

现有3个掺杂砷的n型锗半导体(电离能Ed=0.0127eV),其杂质浓度ND/cm-3分别为5.5E16,1.7E15,1.4E14,画出三者的

现有3个掺杂砷的n型锗半导体(电离能Ed=0.0127eV),其杂质浓度ND/cm-3分别为5.5E16,1.7E15,1.4E14,画出三者的logn-1/T曲线。

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更多“现有3个掺杂砷的n型锗半导体(电离能Ed=0.0127eV),其杂质浓度ND/cm-3分别为5.5E16,1.7E15,1.4E14,画出三者的”相关的问题

第1题

如果以单晶砷作基质,掺杂硒后是什么类型的半导体?掺杂锗后是哪类半导体?为什么?

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第2题

制造半导体元件的纯净锗必须掺入少量杂质原子,设均匀掺杂的比例为10-9,若将锗的结构看作为立方点
阵,晶格常量设为0.5nm,试估计杂质原子之间的距离.

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第3题

若一个n型半导体的施主能级离导带底距离为Ed,Nd,nd和n分别表示单位体积中施主、施主能级上电子和导带电子的

若一个n型半导体的施主能级离导带底距离为Ed,Nd,nd和n分别表示单位体积中施主、施主能级上电子和导带电子的数目,证明

式中,;m*是导带电子的有效质量。

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第4题

下面的物质属于半导体材料的是[ ].A.银B.铜C.锗D.玻璃

下面的物质属于半导体材料的是[ ].

A.银

B.铜

C.锗

D.玻璃

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第5题

利用金属一半导体接触,推导非均匀掺杂半导体的掺杂浓度的表达式 并加以讨论和说明。

利用金属一半导体接触,推导非均匀掺杂半导体的掺杂浓度的表达式

并加以讨论和说明。

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第6题

在掺杂半导体中,少子的浓度受()的影响很大。

A.温度

B.掺杂工艺

C.杂质浓度

D.晶体缺陷

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第7题

制造半导体元件的纯净锗必须仅含有10-9杂质原子,若将锗的结构看作为立方点阵,晶格常量设为0.5nm,试估计杂质

制造半导体元件的纯净锗必须仅含有10-9杂质原子,若将锗的结构看作为立方点阵,晶格常量设为0.5nm,试估计杂质原子之间的距离.

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第8题

适当掺杂和加热都能使半导体的电导率增加,这两种处理本质上有无不同?

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第9题

下列不是半导体异质结太阳电池的是()

A.硫化亚铜一硫化镉太阳电池

B. 蹄化镉太阳电池

C. 砷化稼太阳电池

D. 非晶硅薄膜太阳电池

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第10题

在室温下n型锗的霍耳系数RH=100cm3/c,求载流子浓度.

在室温下n型锗的霍耳系数RH=100cm3/c,求载流子浓度.

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第11题

在室温下N型锗的霍尔系数RH=100cm3/C求载波子浓度.

在室温下N型锗的霍尔系数RH=100cm3/C求载波子浓度.

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