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[主观题]

一均匀基区硅BJT的基区宽度为0.5μm,基区杂质浓度Na=1016cm-3.若穿通击穿电压期望值为BVBC=25V,集电区掺杂浓

一均匀基区硅BJT的基区宽度为0.5μm,基区杂质浓度Na=1016cm-3.若穿通击穿电压期望值为BVBC=25V,集电区掺杂浓度为若干?如果不使集电区穿通,集电区宽度至少应大于多少?(硅相对介电常数k=11.9,ε0=8.85×10-14F/M,q=1.6×10-19C)

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第1题

(1)设ωα和ωβ分别为BJT共基极和共射极截止频率,试证明:,式中α0为直流共基极电流增益. (2)证明:ωT≈hFEωβ≈α0ω

(1)设ωα和ωβ分别为BJT共基极和共射极截止频率,试证明:,式中α0为直流共基极电流增益.

(2)证明:ωT≈hFEωβ≈α0ωα·

(3)根据,解释BJT的基区宽度调变效应.

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第2题

三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()
三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()

A.正确

B.错误

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第3题

关于BJT的结构特点说法错误的是()。

A.基区很薄且掺杂浓度很低

B.发射区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

C.基区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

D.集电区面积大于发射区面积

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第4题

晶体管的内部放大条件是:发射区重掺杂,基区轻掺杂且宽度很窄,集电极面积大等。()
晶体管的内部放大条件是:发射区重掺杂,基区轻掺杂且宽度很窄,集电极面积大等。()

A.正确

B.错误

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第5题

在图LP2-21所示实现平方律运算的电路中,各管有相同的发射结面积,工作在放大区,β很大,且忽略基区

在图LP2-21所示实现平方律运算的电路中,各管有相同的发射结面积,工作在放大区,β很大,且忽略基区宽度调制效应,试证:IW2=IX2+IY2。

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第6题

刻槽埋栅电池的叙述不正确优点是()。

A.埋栅电报处实行重掺杂有利于形成欧姆接触,提高电池的开路电压

B. 栅指电极埋入电池表面无遮光,提高短路电流密度

C. 埋栅电极深入到硅衬底内部增加了基区光生电子复合

D. 淡磷扩散减少“死层”的形成,增加对长波的响应

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第7题

太阳电池前面和背面的电极和接触,以及材料本身具有一定的电阻率,基区和顶层都不可避免的要引入附加电阻,它们的总效果可表示为()。

A.横向电阻

B. 并联电阻

C. 串联电阻

D. 体电阻

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第8题

根据基区电荷控制方程导出式,即

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第9题

位于集电区与基区之间的PN结称为()。

A.基极

B.发射结

C.集电结

D.以上选项均不正确

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第10题

晶体管的发射区的作用是向基区发射自由电子,集电区的作用是收集这些自由电子。()
晶体管的发射区的作用是向基区发射自由电子,集电区的作用是收集这些自由电子。()

A.错误

B.正确

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第11题

PN结位于发射区与基区之间被称为()。

A.基极

B.发射结

C.集电结

D.以上选项均不正确

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