依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列表述中不正确的表述是:()
A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权
B.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。
A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权
B.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。
第5题
A.侵权行为
B.不视为侵权行为
C.违法行为
D.犯罪行为
第6题
A.进口、销售或为商业目的出售含有受保护的布图设计的集成电路
B.进口、销售或为商业目的出售含有受保护集成电路的产品
C.进口、销售或为商业目的出售受保护的工业品外观设计
D.进口、销售或为商业目的出售受保护的布图设计
第7题
A.甲将多个常规设计重新组合,获得了一个独特的新的布图设计,并将之投入商业利用
B.甲复制他人受保护的布图设计用于课堂教学,没有向权利人支付报酬
C.甲未经许可将权利人的布图设计加以复制用于研究,并在此基础上创作出一个新的布图设计
D.甲未经许可进口含有受保护集成电路布图设计的物品进行销售
第9题
A.该协议所指的知识产权不包含集成电路布图设计权
B.该协议对精神权利不予保护
C.该协议规定了国民待遇原则
D.该协议规定其他成员国的立法可以高于该协议保护水平。也可以低于该协议保护水平