第4题
A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权
B.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。
第5题
A.该布图设计必须投入商业实施
B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C.布图设计应具有独创性
D.受保护的布图设计必须办理登记手续
第6题
A.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
第7题
A. 外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
B. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。
C. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
D. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
第10题
A.甲将多个常规设计重新组合,获得了一个独特的新的布图设计,并将之投入商业利用
B.甲复制他人受保护的布图设计用于课堂教学,没有向权利人支付报酬
C.甲未经许可将权利人的布图设计加以复制用于研究,并在此基础上创作出一个新的布图设计
D.甲未经许可进口含有受保护集成电路布图设计的物品进行销售