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[单选题]

集成电路布图设计必须具备（)，才能受到法律保护。

A.新颖性

B.实用性

C.独占性

D.原创性

答案

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发布时间：2022-12-08

更多“集成电路布图设计必须具备()，才能受到法律保护。”相关的问题

第1题

关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。

A.该布图设计必须投入商业实施

B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中

C.布图设计应具有独创性

D.受保护的布图设计必须办理登记手续

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第2题

TRIPS规定成员必须予以保护的对象是( )。

A.集成电路布图设计

B.计算机软件

C.地理标志

D.实用新型

E.未披露信息

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第3题

根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学目的而复制受保护的布图设计的()。

A.必须经设计权利人许可，并且支付必要费用

B. 可以不经设计权利人许可，但是必须支付报酬

C. 经权利人许可后可以不支付必要费用

D. 可以不经布图设计权利人许可，也不向其支付报酬

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第4题

对于集成电路布图设计，美国称之为（）。

A.布图设计

B.掩模作品

C.拓扑图

D.电路布图

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第5题

集成电路的布图设计的保护期为15年（)

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第6题

集成电路布图设计权（名词解释)

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第7题

计算机软件和集成电路布图设计，均属（)保护范畴。

A.专利权

B.著作权

C.商标权

D.使用权

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第8题

我们通常所说的“小发明”是指( )。

A.发明

B.实用新型

C.外观设计

D.集成电路布图设计

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第9题

布图设计已经投入商业利用的，在申请布图设计登记之时，申请人应该提交含有该布图设计的（）。

A.文字资料

B.集成电路样品

C.设计原稿

D.布图设计图纸

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第10题

《伯尔尼公约》保护的对象是()

A.注册商标

B. 文学艺术作品

C. 录音制品

D. 集成电路布图设计

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第11题

最早对集成电路布图设计进行保护的国家为()。

A.英国

B.法国

C.日本

D.美国

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