题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
提高配位滴定选择性,消除共存金属离子干扰的最彻底方法是()。
A.解蔽法
B.配位掩蔽法
C.沉淀掩蔽法
D.氧化还原掩蔽法
E.预先分离
答案
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A.解蔽法
B.配位掩蔽法
C.沉淀掩蔽法
D.氧化还原掩蔽法
E.预先分离
第2题
A.EDTA能金属离子形成稳定配合物,配位比一般是1:1
B.EDTA与金属离子配位时,一般能形成颜色更深的螯合物
C.EDTA与金属离子形成的配合物大多带电荷,能溶于水
D.A和C
第3题
A.配位掩蔽剂必须可溶且无色
B.沉淀掩蔽生成的沉淀,其溶解度要很小
C.氧化还原掩蔽剂必须能改变干扰离子的氧化态
D.掩蔽剂的用量愈多愈好
第4题
A . 提高测定结果的精密度
B . 维持溶液具有相同的活度系数和副反应系数
C . 消除干扰离子
D . 提高响应速度
第6题
A . 0.15-0.18V
B . 0.1-0.2V
C . 0.3-0.4V
D . 0.5-0.8V
第7题
A . 0.15-0.18V
B . 0.1-0.2V
C . C0.3-0.4V
D . 0.5-0.8V
第10题
A . 消除温度的影响
B . 提高测定的灵敏度
C . 扣除待测电池电动势与试液pH值关系式中的“K”
D . 消除干扰离子的影响