题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
下列属于DNA自发损伤的是( )。
A.DNA复制时碱基错配
B.紫外线照射DNA生成嘧啶二聚体
C.X射线间接引起DNA断裂
D.亚硝酸盐使胞嘧啶脱氨
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A.DNA复制时碱基错配
B.紫外线照射DNA生成嘧啶二聚体
C.X射线间接引起DNA断裂
D.亚硝酸盐使胞嘧啶脱氨
第5题
A.细胞分离期间复制产物被分离之后的DNA片段
B.复制的DNA片段和在此过程中所需的酶和蛋白
C.任何自发复制的DNA序列(它与复制起始点相连)
D.复制起点和复制叉之间的DNA片段
第8题
A.DNA的空间结构选择性地使部分DNA暴露在诱变因子的作用下
B. 存在可被进一步修饰(如脱氨基)的已修饰碱基(如甲基化),导致碱基转换并通过复制产生突变
C. 被修饰(如甲基化)碱基的存在,易于发生错配复制并因此产生突变
D. DNA中富含A-T区域的存在,使得自发解链及错配碱基的掺入
E. 对沉默突变的选择压力很低,因此热点多为密码子第三位的碱基
第10题
DNA分子中的4种碱基各自的异构体间可以自发的相互变化,使配对碱基间的氢键改变,并使碱基之间配对发生改变。( )
第11题
A.DNA空间结构的暴露部分往往被选择为诱变反应的DNA部分。
B.那些易于进一步获得修饰(如脱氨基作用)的修饰碱基的存在,导致碱基的转变和复制后的突变。
C.在复制中容易错误配对的修饰碱基的存在,产生了突变。
D.富含A·T的DNA片段的存在,这些片段自发解离和形成碱基误配核苷酸。
E.对同义突变的低选择(压力),因此热点总是由于密码子中第三个碱基引起。