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[主观题]

在话音产生模型中,浊音信号产生是通过哪种方法实现的?()

A.带基音周期的脉冲序列冲击声带滤波器产生的

B.预测器预测产生的

C.声带滤波器系数与增益系数相乘产生的

D.本地随机噪声发生器冲击声带滤波器产生的

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更多“在话音产生模型中,浊音信号产生是通过哪种方法实现的?()”相关的问题

第1题

在话音产生模型中,浊音信号产生是通过哪种方法实现的?()

A.预测器预测产生的

B.本地随机噪声发生器冲击声带滤波器产生的

C.带基音周期的脉冲序列冲击声带滤波器产生的

D.声带滤波器系数与增益系数相乘产生的

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第2题

在话音产生模型中,浊音信号产生是通过哪种方法实现的?()

A.带基音周期的脉冲序列冲击声带滤波器产生的

B.预测器预测产生的

C.声带滤波器系数与增益系数相乘产生的

D.本地随机噪声发生器冲击声带滤波器产生的

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第3题

下面关于音频信号压缩的叙述,不正确是的()。

A.话音信号的压缩可依赖于其产生方式进行

B.声音信号的压缩很大程度是依赖于人的感观特性进行的

C.声音信号压缩全都是基于采样点进行的

D.声音信号中包含大量的冗余信息

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第4题

下面关于音频信号压缩的叙述,不正确是的()。

A.声音信号压缩全都是基于采样点进行的

B.声音信号中包含大量的冗余信息

C.声音信号的压缩很大程度是依赖于人的感观特性进行的

D.话音信号的压缩可依赖于其产生方式进行

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第5题

真核基因被分为内含子和外显子,它为从单个基因上获得多基因产物(通过RNA加工)提供了可能性。先进的科技应用

真核基因被分为内含子和外显子,它为从单个基因上获得多基因产物(通过RNA加工)提供了可能性。先进的科技应用不同的剪接技术及不同的聚腺苷化来产生组织特异性突变体。这些都来自同一个转录单元。

编码小肽激素——降钙素的基因就是一个实例。降钙素基因包含有六个外显子。在甲状腺细胞中,可以产生编码降钙素的mRNA,它含有外显子1、2、3和4,且在外显子4的末端有一个聚腺苷化位点。在神经元细胞中,这种基因不产生降钙素,却能产生降钙素基因相关的多肽(CGRP)。它的mRNA包含外显子1、2、3、5和6。基因和它的组织专一性加工模式如图13-3-55所示,在两种细胞中,转录在同一位点起始,并且延伸至外显子6以外的区域。

降钙素(CGRP转录产物)不同的加工机制仍然不清楚,因为不同的poly(A)位点和不同的剪接位点在两种加工过程中都得以应用。调控降钙素及CGRP表达的组织专一性因子要么包含于聚腺苷化反应中,要么包含于剪接过程中。推测两个可能的模型,一个是:甲状腺细胞产生降钙素是因为它含有一个专一性因子,它能够高效识别存在于外显子4上的polyA位点,导致在外显子3和5的剪接前就发生了前体RNA的切割,并导致CGRPmRNA的形成。第二个模型:剪接位点的选择决定了哪种mRNA的产生。甲状腺细胞产生降钙素是因为它们把外显子3剪接到外显子4上。而神经元细胞产生CGRP是因为它们把外显子3剪接到外显子5上。据此推测,一种或两种细胞产生一种因子,它更趋向于某一种类型的剪接。

为了验证这些假设,位于外显子4末端的聚腺苷化信号,通过突变而发生改变(图13-3-55),改变的基因被导入一个淋巴细胞系中,这个细胞系只能通过野生型基因产生降钙素,由于突变体缺乏外显子4的聚腺苷化位点,所以根本不产生mRNA。若缺乏外显子4,剪接位点的突变体只产生CGRPmRNA。

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第6题

设有均值为0,方差为1的白噪声η[k]列通过下列差分方程表示的滤波器后产生随机信号y[k] y[k]=0.9y[k-1]+η[k]

设有均值为0,方差为1的白噪声η[k]列通过下列差分方程表示的滤波器后产生随机信号y[k]

y[k]=0.9y[k-1]+η[k]

(1)根据AR模型确定滤波器的系统函数H(z)。

(2)求输出功率谱Py(Ω)。

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第7题

被控对象模型辨识方法中,哪种在输入端施加的是正弦信号?()
被控对象模型辨识方法中,哪种在输入端施加的是正弦信号?()

A.频域法

B.统计法

C.时域法

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第8题

被控对象模型辨识方法中,哪种在输入端施加的是正弦信号()

A.频域法

B.时域法

C.统计法

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第9题

变参信道中的传输媒介有什么特点?对传输信号将产生什么影响?目前克服这些影响主要采取哪种措施?

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第10题

最简单的产生高斯最小频移键控(GMSK)信号的方法是通过在FM调制器前加入(),称为预制滤波器。

A.高斯低通滤波器

B.高斯高通滤波器

C.高斯带通滤波器

D.高斯带阻滤波器

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第11题

某些易电离的元素在火焰中易发生电离而产生电离干扰,使参与原子吸收的基态原子数减少,从而引起原子吸收信号的降低。为了消除电离干扰,我们一般采用下列哪种方法()

A、扣除背景

B、使用高温火焰

C、加入释放剂、保护剂和缓冲剂

D、加入比待测元素更易电离的元素来抑制待测元素的电离

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